산화처리된 Metal Cap과 도재간의 전기화학적 특성
Electrochemical Characteristics of the Oxide Film Formed Metal Cap/Ceramic Interface
이명신, 도영범, 윤창섭,
소속 상세정보
이명신 ( Lee Myung-Shin ) - 조선대학교 치과대학 치과재료학교실 및 생체재료나노계면활성화센터
도영범 ( Do Young-Bum ) - 조선대학교 치과대학 치과재료학교실 및 치과기자재시험평가센터
윤창섭 ( Yoon Chang-Suep ) - 조선대학교 치과대학 치과재료학교실 및 치과기자재시험평가센터
KMID : 0353320060300010055
Abstract
[초록없음:No abstract]
키워드
artificial oxide film;PFM metal cap;electrochemical characteristics;Corrosion resistance;potentiodynamic test;Co-Cr and Ni-Cr alloys
원문 및 링크아웃 정보
등재저널 정보